Mori Katsumi

モリカツミ | Mori Katsumi

Research field (3)： Thin-film surfaces and interfaces , Crystal engineering , Applied materials

Research keywords (4)：荷電ビーム微細加工 , 半導体 , Beam assisted micro fabrication , Semiconductor

Research theme for competitive and other funds (2)：

MISC (6)：

電子ビームCVDによるダイアモンド膜の微細加工. 2002. 17. 1096-1100
Micro fabrication of diamond films by localized electron beam CVD. Semiconductor Science and Technology. 2002. 17. 1096-1100
電子ビームリソグラフィによるダイアモンド膜の微細パターン形成. 2000. 39. 7B. 4532
電子ビームによるダイアモンドへの微細パターン形成. ニューダイアモンドフォーラム学術委員会. 2000
Kiyohara Shuji, Ayano Kenjiro, Abe Takahisa, Mori Katsumi. Micropatterning of CVD diamond films in EB lithography. Japanese Journal of Applied Physics. 2000. 39. 7B. 4532-4535

ｍore...

Books (4)：

Works (2)：

Professional career (1)：

Association Membership(s) (2)：

表面科学会 , 応用物理学会

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

Return to Previous Page