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J-GLOBAL ID:200901002564610160
Update date: Nov. 19, 2024
Ohmi Shun'ichiro
オオミ シュンイチロウ | Ohmi Shun'ichiro
Affiliation and department:
Institute of Science Tokyo School of Engineering
About Institute of Science Tokyo School of Engineering
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Job title:
Associate Professor
MISC (257):
Md. Akhtaruzzaman, Shun-Ichiro Ohmi, Jun-ichi Nishida, Yoshiro Yamashita, Hiroshi Ishiwara. Study on Stability of Pentacene-Based Metal-Oxide-Semiconductor Diodes in Air Using Capacitance-Voltage Characteristics. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2009. 48. 4. 04C178-1-3
M. Akhtaruzzaman, S. Ohmi, J. Nishida, Y. Yamashita, H. Ishiwara. Study on Stability of Pentacene-Based Metal-Oxide-Semiconductor Diodes in Air Using Capacitance-Voltage Characteristics. Japan J. Appl. Phys. 2009. 48. 04C178-1-3
Shun-ichiro Ohmi, Tetsushi Sakai. A proposal of TC-MOSFET and fabrication process of twin Si channels. IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS. 2007. E90C. 5. 994-999
Shun-ichiro Ohmi, Tetsushi Sakai. A proposal of TC-MOSFET and fabrication process of twin Si channels. IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS. 2007. E90C. 5. 994-999
J. Kato, H. Oka, K. Kanemoto, H. Hisamatsu, Y. Matsuzawa, Y. Kitano, T. Hara, M. Hoshina, S. Ohmi. Mechanism of selective etching of SiGe layers in SiGe/Si systems. ECS Transactions. 2007. 6. 8. 245-251
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Books (2):
Advances in the Understanding of Crystal Growth Mechanisms
Elsevier Science 1997
Advances in the Understanding of Crystal Growth Mechanisms
Elsevier Science 1997
Lectures and oral presentations (105):
ウェットエッチングによるYb混晶化PtSiのパターニングに関する検討
(春季第57回応用物理学関係連合講演会 2010)
2段階シリサイド化によるHf混晶化PtSiの極薄膜化にかんする検討
(春季第57回応用物理学関係連合講演会 2010)
ECRスパッタ法により形成したHfN/HfSiON/Si(100)ゲートスタック構造の評価
(春季第57回応用物理学関係連合講演会 2010)
Electrical Properties of Hf/HfSiON/p-Si(100) Structure MIS capacitor by Using ECR-Sputtering
(2010)
RFマグネトロンスパッタ法によるPtSiゲート電極の形成
(春季第57回応用物理学関係連合講演会 2010)
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Education (3):
- 1996 Tokyo Institute of Technology Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering
- 1996 Tokyo Institute of Technology Graduate School, Division of Integrated Science and Engineering
- 1991 Nagoya University School of Engineering
Professional career (1):
Doctor of Engineering (Tokyo Institute of Technology)
Work history (16):
2001 - 2007 :東京工業大学 助教授
2001 - 2007 :
2007 - -:東京工業大学 准教授
2007 - -:
2006 - -:東京工芸大学 工学部 非常勤講師
2006 - -:
2005 - -:東京工芸大学 大学院工学研究科 非常勤講師
2005 - -:
1996 - 2001 :東京工業大学 助手
1996 - 2001 :
2000 - 2000 :North Carolina State University 訪問研究員
2000 - 2000 :
1997 - 1999 :Lucent Technologies Bell Labs 博士研究員
1997 - 1999 :
1994 - 1996 :日本学術振興会 特別研究員
1994 - 1996 :
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Committee career (3):
2006 - 2008 電気学会 超集積化・環境CMOSデバイス調査専門委員会 委員長、全国大会 4G主査 、電子デバイス技術委員会 幹事補佐 、全国大会 4G幹事 、調査専門委員会 幹事 ・・・
2005 - 電子情報通信学会 会誌編集委員会委員 、SDM委員会委員
2001 - 2003 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 接合技術研究委員会 幹事
Awards (4):
2007 - JJAP Editorial Contribution Award
2007 - JJAP Editorial Contribution Award
2002 - 応用物理学会論文賞解説論文賞
1997 - 手島記念研究賞博士論文賞
Association Membership(s) (7):
応用物理学会
, ECS
, IEEE EDS
, 電子情報通信学会
, 電気学会
, IEEE EDS
, ECS
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