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J-GLOBAL ID：200902031051361096   Reference number：91A0863456

Low-temperature silicon and germanium CVD in ultracleam environment.

Author (4)： MUROTA J (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KATO M (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KIRCHER R (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ONO S (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
Material： Journal de Physique. 4. Proceedings  (Journal de Physique. 4)
Volume： 1  Issue： C2  Page： C2.795-C2.802  Publication year： Sep. 1991 
JST Material Number： A0743C  ISSN： 1155-4339  Document type： Proceedings
Country of issue： France (FRA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： CVD