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J-GLOBAL ID：200902032259852812   Reference number：92A0367045

Ultraclen CVD Processing for High Quality Thin Film Growth.

CVDプロセスの高清浄化と高品質薄膜形成に関する研究

Author (9)： MUROTA JUN'ICHI (東北大 電通研) ,  KATO MANABU (東北大 大学院) ,  MIKOSHIBA NOBUO (Hewlett-Packard Co. 日本研) ,  ONO SHOICHI (東北大 電通研) ,  MAEDA TAKAHIRO (国際電気) ,  NAKAMURA NAOTO (国際電気) ,  SATO TAKETOSHI (国際電気) ,  FURUNO MAKOTO (国際電気) ,  IKEDA FUMIHIDE (国際電気)
Material： 国際電気技報
Issue： 19  Page： 1-11  Publication year： Mar. 1992 
JST Material Number： X0673A  ISSN： 0910-0792  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： chemical vapor deposition ,...

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： CVD ,  プロセス ,  清浄化 ,  高品質 ,  薄膜形成 ,  研究