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J-GLOBAL ID：200902032348788990   Reference number：92A0191091

Interaction of Mo/Ni and Mo/Co bilayer structures with silicon.

Mo/Ni,Mo/Co二層構造とシリコンとの相互作用

Author (3)： RASTOGI R S (Indian Inst. Technology, New Delhi, IND) ,  VANKAR V D (Indian Inst. Technology, New Delhi, IND) ,  CHOPRA K L (Indian Inst. Technology, New Delhi, IND)
Material： Thin Solid Films
Volume： 206  Issue： 1/2  Page： 34-39  Publication year： Dec. 10, 1991 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： magnetron sputtering ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  半導体-金属接触【’81~’92】  (BM03073E)

Terms in the title (6)： Mo ,  Ni ,  CO ,  層構造 ,  シリコン ,  相互作用