Art

J-GLOBAL ID：200902034436475482   Reference number：86A0477119

Production of TiN films by R.F. sputtering.

スパタリング法によるTiN薄膜の形成

Author (4)： KARAIWA MASATO (三井石油化学工業総研) ,  MIZUNO MASAAKI (東大工) ,  BABA SHIGERU (東大工) ,  KIMBARA AKIRA (東大工)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 29  Issue： 5  Page： 400-403  Publication year： May. 1986 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： nitride ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Ceramic coating to metallic materials  (YC02050V)

Reference (7)：

• 1) M. Wittmer, J. Vac. Sci. Technol. A3 (1985) 1797.
• 2) Y. Igasaki and H. Mitsuhashi, Thin Solid Films 70 (1980) 17.
• 3) K. Y. Ahn, M. Wittmer and C. Y. Ting, Thin Solid Films 107 (1983) 45.
• 4) G. Lemperiere and L. M. Poitevin, Thin Solid Films 111 (1984) 339.
• 5) J. E. Sundgren, Thin Solid Films 128 (1985) 21.

Terms in the title (2)： スパタリング ,  TiN薄膜