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J-GLOBAL ID：200902044573206680   Reference number：88A0217888

Thermo-chemical etching of Si₃N₄.

熱化学反応を用いたSi₃N₄の除去加工

Author (7)： TSUCHIYA HACHIRO (京都工繊大 工芸) ,  GOTO HIDEKAZU (京都工繊大 工芸) ,  MORI YUZO (大阪大 工) ,  ENDO KATSUYOSHI (大阪大 工) ,  YAMAUCHI KAZUTO (大阪大 工) ,  MIYAZAKI MAKOTO (京都工繊大 工芸) ,  NISHI MASAFUMI (三洋電機)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 54  Issue： 1  Page： 96-100  Publication year： Jan. 1988 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： carbon dioxide laser ,...
Semi thesaurus term： machining accuracy

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JST classification (2)： Special machining  (QC04000Y) ,  Properties of ceramics and ceramic whiteware  (YC03030G)

Reference (5)：

• 1) 井上友一, 土屋八郎, 後藤英和, 宮崎 眞 : セラミックスの電解放電加工における加工機構について, 精機学会昭和59年度関西地方定期学術講演会講演論文集(1984)77.
• 2) 森田 昇, 石田修一, 長野幸隆 : セラミックスのレーザ加工, 昭和60年度精機学会春季大会学術講演会講演論文集(1985)161.
• 3) 松井伸介, 小薮国夫, 渡辺純二 : レーザアシストケミカルエッチング(第5報)-種々のセラミックスに対する加工特性, 昭和60年度精機学会春季大会学術講演会講演論文集(1985)125.
• 4) R. J. von Gutfeld and R. T. Hodgson : Laser Enhanced Etching in KOH, Appl. Phys. Lett., 40, 4, (1982) 352.
• 5) A. Ishitani, H. Ishida, F. Soeda and Y. Nagasawa : Fourier Transform Infrared Reflection Absorption Spectrometry and Electron Spectroscopy for Chemical Analysis for Surface Analysis, Anal. Chem., 54, 4, (1982) 682.

Terms in the title (3)： 熱化学反応 ,  Si3N4 ,  除去加工