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J-GLOBAL ID：200902053011398489   Reference number：92A0168793

Projection electron-beam lithography: A new approach.

投影電子ビームリソグラフィー 新しい試み

Author (7)： BERGER S D (AT & T Bell Lab., New Jersey) ,  GIBSON J M (AT & T Bell Lab., New Jersey) ,  CAMARDA R M (AT & T Bell Lab., New Jersey) ,  FARROW R C (AT & T Bell Lab., New Jersey) ,  HUGGINS H A (AT & T Bell Lab., New Jersey) ,  KRAUS J S (AT & T Bell Lab., New Jersey) ,  LIDDLE J A (AT & T Bell Lab., New Jersey)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 9  Issue： 6  Page： 2996-2999  Publication year： Nov. 1991 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： electron beam ,...
Semi thesaurus term： SCALPEL ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X)

Terms in the title (3)： 投影 ,  電子ビームリソグラフィー ,  試み