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J-GLOBAL ID：200902079652130655   Reference number：91A0392801

Preparation and characterization of Li-doped ZnO films.

LiドープZnO膜の作製と評価

Author (4)： VALENTINI A (Univ. Unit<span style=text-decoration:overline>a ́</span>, Bari, ITA) ,  QUARANTA F (Univ. Unit<span style=text-decoration:overline>a ́</span>, Bari, ITA) ,  ROSSI M (Univ. Unit<span style=text-decoration:overline>a ́</span>, Bari, ITA) ,  BATTAGLIN G (Univ. Unit<span style=text-decoration:overline>a ́</span>, Bari, ITA)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science and Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films)
Volume： 9  Issue： 2  Page： 286-289  Publication year： Mar. 1991 
JST Material Number： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： sputtered deposition ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (5)： Li ,  ドープ ,  ZnO ,  作製 ,  評価