Art

J-GLOBAL ID：200902105790652248   Reference number：02A0191178

Stability of Two-Step-Growth Bi₂Sr₂CuO_x Films on Si(001) using SrO Buffer Layer.

SrOバッファ層を使ってSi(001)上に二段階で成長させたBi₂Sr₂CuO_x膜の安定性

Author (4)： TAMBO T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  SHIMIZU A (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  MATSUDA A (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  TATSUYAMA C (Toyama Univ., Toyama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 1  Page： 83-85  Publication year： Jan. 15, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： buffer layer ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0191178&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Properties of oxide superconductors  (BM04023I)

Reference (23)：

• 1) E. W. Seibt and A. Zalar: Vacuum 46 (1995) 1043.
• 2) R. M. Silver, A. B. Berezin, M. Wendman and A. L. de Lozanne: Appl. Phys. Lett. 52 (1988) 2174.
• 3) A. Tsukamoto, K. Imagawa, M. Hiratani and T. Aida: J. Appl. Phys. 68 (1990) 5278.
• 4) L. S. Hung, J. A. Agostinelli, G. R. Paz-Pujalt and J. M. Mir: Appl. Phys. Lett. 53 (1988) 2450.
• 5) H. Nasu, H. Myorin, Y. Ibara, S. Makida, Y. Nishiyama, T. Kato, T. Imura and Y. Osaka; Jpn. J. Appl. Phys. 27 (1988) L634.

Terms in the title (6)： SrO ,  バッファ層 ,  Si ,  段階 ,  成長 ,  安定性