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J-GLOBAL ID：200902113144031912   Reference number：98A0422022

Particle size measuring method of nanometer order using the light-scattering method. (Report No. 7). Measurement of Si wafer surface in a ultra clean room and evaluation of surface for micro-particle measurement.

光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価

Author (9)： AN HIROSHI (大阪電通大 工) ,  SASAKI TOSHI (大阪電通大 工) ,  TANIGUCHI HIROYUKI (大阪電通大 工) ,  MORI YUZO (大阪大 大学院) ,  KATAOKA TOSHIHIKO (大阪大 大学院) ,  ENDO KATSUYOSHI (大阪大 大学院) ,  YAMAUCHI KAZUHITO (大阪大 大学院) ,  INOUE HARUYUKI (大阪大 大学院) ,  IYAMA SHOGO (大阪大 大学院)
Material： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
Volume： 1998  Issue： 春季  Page： 674  Publication year： Mar. 1998 
JST Material Number： Y0914A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Reference (4)：

• 森. 精密工学会誌. 1989, 2132-2137
• 森. 精密工学会誌. 1990, 1847-1852
• 森. 精密工学会誌. 1993, 1121-1126
• 安. 1997年度精密工学会春季大会論文集. 389

Terms in the title (8)： 光散乱法 ,  ナノメータ ,  オーダ ,  粒径測定 ,  クリーンルーム ,  Siウェーハ ,  微粒子 ,  評価