Art

J-GLOBAL ID：200902114577429887   Reference number：96A0613997

Control of Diffusion Kinetics in ArF Liquid-Phase Silylation Process.

ArF液相シリル化法での拡散速度の制御

Author (2)： MATSUO T (Matsushita Electic Ind., Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  ENDO M (Matsushita Electic Ind., Co., Ltd., Osaka, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 9  Issue： 3  Page： 523-531  Publication year： 1996 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： circuit pattern generation ,...
Semi thesaurus term： photocrosslinking ,...

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JST classification (2)： Other reactions of polymer  (CG03040H) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (10)：

• 1) K. Maeda, T. Ohfuji, N. Aizaki and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2438, (1995) 465.
• 2) S. C. Palmateer, R. R. Kunz, M. W. Horn, A.R.Forte and M. Rothschild, Proc. SPIE, 2438, (1995) 455.
• 3) M. A. Harteny, R. R. Kunz, L. M. Eriksen and D. C. La Tulipe, Proc. SPIE, 1925, (1993) 270.
• 4) K. H. Baik, L. Vandenhove and B. Roland, J. Vac. Sci. Technol., B9 (1991) 3399.
• 5) H. Oizumi, Y. Yamashita, T. Ogawa, T. Soga and R. Yamanaka, Jpn. J. Appl. Phys., 34 (1995) 6734.

Terms in the title (4)： ARF ,  液相 ,  シリル化 ,  拡散速度