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J-GLOBAL ID：200902116799790220   Reference number：93A0912325

Ultrahigh vacuum metalorganic chemical vapor deposition growth and in situ characterization of epitaxial TiO₂ films.

エピタキシャルTiO₂膜の超高真空有機金属化学蒸着とその場評価

Author (9)： CHEN S (Eastman Kodak Co., New York) ,  MASON M G (Eastman Kodak Co., New York) ,  GYSLING H J (Eastman Kodak Co., New York) ,  PAZ-PUJALT G R (Eastman Kodak Co., New York) ,  BLANTON T N (Eastman Kodak Co., New York) ,  CASTRO T (Univ. Minnesota, Minnesota) ,  CHEN K M (Univ. Minnesota, Minnesota) ,  FICTORIE C P (Univ. Minnesota, Minnesota) ,  EVANS J F (Univ. Minnesota, Minnesota)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science and Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films)
Volume： 11  Issue： 5  Page： 2419-2429  Publication year： Sep. 1993 
JST Material Number： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： titanium oxide ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (5)： エピタキシャル ,  TiO2 ,  高真空 ,  有機金属化学蒸着 ,  評価