Art

J-GLOBAL ID：200902118407238322   Reference number：01A0886209

Fabrication of a nanometric Zn dot by nonresonant near-field optical chemical-vapor deposition.

非共鳴近接場光CVD法によるナノメートルZnドットの製作

Author (3)： KAWAZOE T (Japan Sci. Technol. Corp., Tokyo, JPN) ,  YAMAMOTO Y (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  OHTSU M (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 79  Issue： 8  Page： 1184-1186  Publication year： Aug. 20, 2001 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photo-CVD ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Substance index (1)： Diethyl zinc

Terms in the title (6)： 共鳴 ,  近接場光 ,  CVD法 ,  Zn ,  ドット ,  製作