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J-GLOBAL ID：200902119333577525   Reference number：01A0157031

Three-dimensional nanostructure fabrication by focused-ion-beam chemical vapor deposition.

集束イオンビーム化学蒸着による三次元ナノ構造の作製

Author (6)： MATSUI S (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  KAITO T (Seiko Instrument Inc., Shizuoka, JPN) ,  FUJITA J (NEC Fundamental Res. Lab., Ibaraki, JPN) ,  KOMURO M (MITI Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  KANDA K (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  HARUYAMA Y (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 18  Issue： 6  Page： 3181-3184  Publication year： Nov. 2000 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *focused ion beam ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Thin films in general  (BK14010X)

Terms in the title (3)： 集束イオンビーム化学蒸着 ,  ナノ構造 ,  作製