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J-GLOBAL ID：200902119419245886   Reference number：01A0605461

Spatial Distribution of Cu Atoms Sputtered from Copper Target in RF Magnetron Sputtering.

高周波マグネトロンスパッタリングにおける銅ターゲットからスパッタされた銅原子の空間分布
Author (1)：
BANDAI T

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(Kanagawa Inst. Technol.)

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Material：
神奈川工科大学研究報告 B 理工学編  (Research Reports of Kanagawa Institute of Technology. Part B. Science and Technology)

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Issue： 25  Page： 131-136  Publication year： Mar. 20, 2001 
JST Material Number： S0956A  ISSN： 0916-1902  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)
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Metallic thin films 
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空間分布

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