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J-GLOBAL ID：200902121288039864   Reference number：99A0552279

Adhesion strength of plasma-assisted CVD B(C,N) film to silicon substrate.

プラズマCVD B(C,N)フィルムのシリコン基板への接着力

Author (5)： NAKAMURA S (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN) ,  SAITO N (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN) ,  YOSHIOKA S (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN) ,  NAKAAKI I (Shizuoka Prefectural Fuji Industrial Inst., Fuji-shi, JPN) ,  SUZAKI Y (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN)
Material： Journal of Adhesion Science and Technology  (J Adhes Sci Technol)
Volume： 13  Issue： 5  Page： 615-627  Publication year： May. 1999 
JST Material Number： T0475A  ISSN： 0169-4243  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *adhesion test ,...

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JST classification (1)： Properties and test of adhesives  (YK02000Q)

Terms in the title (4)： プラズマCVD ,  フィルム ,  シリコン基板 ,  接着力