Art

J-GLOBAL ID：200902123213628638   Reference number：02A0901805

Characterization of fine particle trapping in a plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor.

プラズマ促進化学蒸着反応器内の微粒子トラッピングのキャラクタリゼーション

Author (3)： SETYAWAN H (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  SHIMADA M (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  OKUYAMA K (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 92  Issue： 9  Page： 5525-5531  Publication year： Nov. 01, 2002 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...

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JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (5)： プラズマ促進化学蒸着 ,  反応器 ,  微粒子 ,  トラッピング ,  キャラクタリゼーション