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J-GLOBAL ID：200902127272909085   Reference number：99A0396261

Phase transition and properties of Ti-Al-N thin films prepared by r.f.-plasma assisted magnetron sputtering.

高周波プラズマ補助マグネトロンスパッタリングによって作製したTi-Al-N薄膜の相転移と相特性

Author (4)： ZHOU M (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MAKINO Y (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NOSE M (Takaoka National Coll., Toyama, JPN) ,  NOGI K (Takaoka National Coll., Toyama, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 339  Issue： 1/2  Page： 203-208  Publication year： Feb. 08, 1999 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *thin film growth ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Solid phase transitions  (BL04020G)

Terms in the title (7)： 高周波プラズマ ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  Ti-Al ,  薄膜 ,  相転移 ,  相特性