Art

J-GLOBAL ID：200902130191457415   Reference number：01A0778456

Effects of Composition and Annealing on Shape Memory Behavior of Ti-Rich Ti-Ni Thin Films Formed by Sputtering.

スパッタリングで形成したTiリッチTi-Ni薄膜の形状記憶挙動に及ぼす組成及び焼なましの影響

Author (4)： ISHIDA A (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  SATO M (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  KIMURA T (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  SAWAGUCHI T (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
Material： Materials Transactions  (Mater Trans)
Volume： 42  Issue： 6  Page： 1060-1067  Publication year： Jun. 2001 
JST Material Number： G0668A  ISSN： 1345-9678  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： titanium base alloy ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0778456&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0668A") }}

JST classification (1)： Other metallography  (WB01040Y)

Reference (23)：

• 1) S. Miyazaki and A. Ishida: Materia Japan 38 (1999) 279–280.
• 2) A. D. Johnson: J. Microeng. 1 (1991) 34–41.
• 3) K. Kuribayashi, M. Yoshitake and S. Ogawa: Proc. IEEE Micro Electro Mechanical Systems (MEMS-90) (1990) pp. 217–221.
• 4) A. Ishida, A. Takei and S. Miyazaki: Thin Solid Films 228 (1993) 210–214.
• 5) S. Miyazaki and A. Ishida: Mater. Trans., JIM 35 (1994) 14–19.

Terms in the title (8)： スパッタリング ,  Ti ,  Ni ,  薄膜 ,  形状記憶 ,  挙動 ,  組成 ,  焼なまし