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J-GLOBAL ID：200902132403063687   Reference number：95A0232860

Synchrotron Radiation Excited Processes. Present Status and Future Prospects.

放射光励起プロセス特集 現状と今後の課題

Author (3)： URISU TSUNEO (分子科研) ,  NISHIO MITSUHIRO (分子科研) ,  OGAWA HIROSHI (佐賀大)
Material： 放射光  (日本放射光学会誌)
Volume： 8  Issue： 1  Page： 2-15  Publication year： Feb. 1995 
JST Material Number： L0956A  ISSN： 0914-9287  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： chemical vapor deposition ,...

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JST classification (4)： Particle motion and radiation by moving particles in electromagnetic fields  (BD01030Y) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Photochemical reactions  (CB08020F)

Reference (67)：

• KYURAGI, H. J. Appl. Phys. 1987, 61, 2035
• URISU, T. J. Vac. Sci. Technol. 1987, B5, 1436
• URISU, T. Rev. Sci. Instru. 1989, 60, 2157
• KYURAGI, H. J. Electrochem. Soci. 1991, 138, 3416
• MATSUI, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, 1972

Terms in the title (4)： 放射 ,  光励起 ,  プロセス ,  現状