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J-GLOBAL ID：200902133503104514   Reference number：94A0084572

Preparation of SiC Thin Films by Sputtering Method.

スパッタリング法によるSiC薄膜の生成

Author (6)： NAKAMURA YUICHI (信州大 工) ,  SASAKAWA SATORU (信州大 工) ,  KAMIMURA KIICHI (信州大 工) ,  NAKAO MASATO (信州大 工) ,  ONUMA YOSHIHARU (信州大 工) ,  YONEKUBO SO (信州大 工)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
Volume： 93  Issue： 368(SDM93 153-171)  Page： 43-48  Publication year： Dec. 09, 1993 
JST Material Number： S0532B  ISSN： 0913-5685  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： magnetron sputtering ,...
Semi thesaurus term： graphite

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： スパッタリング法 ,  SiC ,  薄膜