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J-GLOBAL ID：200902135172744146   Reference number：00A0812136

Epitaxial growth of Bi₂Sr₂CuO_x films onto Si(001) by molecular beam epitaxy.

分子ビームエピタクシーによるSi(001)上のBi₂Sr₂CuO_x膜のエピタキシャル成長

Author (5)： TAMBO T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  ARAKAWA T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  SHIMIZU A (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  HORI S (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  TATSUYAMA C (Toyama Univ., Toyama, JPN)
Material： Applied Surface Science  (Appl Surf Sci)
Volume： 159/160  Page： 161-166  Publication year： Jun. 2000 
JST Material Number： B0707B  ISSN： 0169-4332  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *high temperature superconductor ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Properties of oxide superconductors  (BM04023I)

Terms in the title (3)： 分子ビームエピタクシー ,  Si ,  エピタキシャル成長