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J-GLOBAL ID：200902135679555639   Reference number：98A0652831

An ab-initio molecular-orbital analysis on the initial plasma CVD process of a-Si:H film on glass substrate.

ガラス基板上のa-Si:H膜の初期プラズマCVD過程に対するab initio分子軌道解析

Author (4)： MIYAZAKI K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  NAKAJIMA K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  SATO K (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  KOINUMA H (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 316  Issue： 1/2  Page： 134-138  Publication year： Mar. 21, 1998 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (7)： ガラス基板 ,  Si ,  初期 ,  プラズマCVD ,  過程 ,  分子軌道 ,  解析