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J-GLOBAL ID：200902138384255675   Reference number：01A0068942

RFマグネトロンスパッタ法による炭素系薄膜の作製と評価

Author (5)： FUJIMOTO KEIICHI (大阪大 大学院 工学研究科) ,  RI KEIKI (大阪大 大学院 工学研究科) ,  HONDA SHIN'ICHI (大阪大 大学院 工学研究科) ,  KATAYAMA MITSUHIRO (大阪大 大学院 工学研究科) ,  OURA KENJIRO (大阪大 大学院 工学研究科)
Material： 真空に関する連合講演会講演予稿集
Volume： 41st  Page： 45-46  Publication year： Oct. 25, 2000 
JST Material Number： L1308A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *nanotube ,...
Semi thesaurus term： flat-panel display

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Display equipment  (NC06030Q)

Terms in the title (5)： RFマグネトロンスパッタ法 ,  炭素 ,  薄膜 ,  作製 ,  評価