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J-GLOBAL ID：200902139495817997   Reference number：99A0936046

Plasma Absorption Probe for Measuring Electron Density in an Environment Soiled with Processing Plasmas.

プロセシングプラズマで汚れた環境における電子密度測定のためのプラズマ吸収プローブ

Author (4)： KOKURA H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  NAKAMURA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  GHANASHEV I P (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SUGAI H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 38  Issue： 9A  Page： 5262-5266  Publication year： Sep. 15, 1999 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma probe ,...
Semi thesaurus term： electron plasma wave ,...

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JST classification (1)： Plasma diagnostics  (BJ02090L)

Reference (7)：

• 1) T. Shirakawa and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 5129.
• 2) T. H. Ahn, K. Nakamura and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) L1405.
• 3) M. Goto, H. Toyoda, M. Kitagawa, T. Hirao and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 3714.
• 4) A. Schwabedissen, E. C. Benck and J. R. Roberts: Plasma Sources Sci. Technol. 7 (1998) 119.
• 5) A. Schwabedissen, C. Soll, A. Brockhaus and J. Engemann: to be published in Plasma Sources Sci. Technol. (1999).

Terms in the title (4)： 環境 ,  電子密度 ,  プラズマ ,  プローブ