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J-GLOBAL ID：200902140424344646   Reference number：03A0050113

Fabrication of Ferroelectric Microcapacitors with Self-Aligned Top Electrodes by Electron-Beam-Induced Patterning Process.

電子ビームに誘起されたパターニングプロセスによるセルフアライントップ電極がある強誘電体ミクロキャパシタの製造

Author (4)： OKAMURA S (Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN) ,  MAEKAWA T (Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN) ,  SUZUKI K (Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN) ,  SHIOSAKI T (Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 11B  Page： 6754-6757  Publication year： Nov. 30, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ferroelectrics ,...
Semi thesaurus term： *PZT ,...

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JST classification (1)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Reference (12)：

• 1) W. Hartner, G. Schindler, V. Weinrich, M. Ahlstedt, H. Schroeder, R. Waser, C. Dehm and C. Mazure: Integr. Ferroelectr. 27 (1999) 213.
• 2) K. Kim: Integr. Ferroelectr., 25 (1999) 149.
• 3) Y. J. Song, H. H. Kim, S. Y. Lee, D. J. Jung, B. J. Koo, N. W. Chang, C. J. Kim and K. Kim: Integr. Ferroelectr. 31 (2000) 351.
• 4) K. Mori and S. Okamura: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) L1143.
• 5) A. Kakimi, S. Okamura, Y. Yagi, K. Mori and T. Tsukamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 5301.

Terms in the title (8)： 電子ビーム ,  誘起 ,  パターニング ,  プロセス ,  セルフアライン ,  トップ ,  強誘電体 ,  キャパシタ