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J-GLOBAL ID：200902144331662171   Reference number：98A0587904

Diamond Films Synthesized by DC Plasma CVD with a Diamond Cathode at Low Temperature.

ダイヤモンド陰極を低温にした直流放電プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の合成

Author (4)： ABE MASAAKI (東海大 工) ,  HIROSAWA SAKURA (東海大 工) ,  YAMANAKA HIROSHI (トーメイダイヤ) ,  HIROSE YOICHI (東海大 工)
Material： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
Volume： 49  Issue： 6  Page： 655-656  Publication year： Jun. 1998 
JST Material Number： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...
Semi thesaurus term： pressure dependence

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JST classification (2)： Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (3)：

• 廣澤さくら. 表面技術. 1998, 49, 94
• SUZUKI, K. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 1818
• SAWABE, A. Appl. Phys. Lett. 1985, 46, 146

Terms in the title (7)： ダイヤモンド ,  陰極 ,  低温 ,  直流 ,  放電 ,  プラズマCVD法 ,  ダイヤモンド薄膜