Art

J-GLOBAL ID：200902144350890533   Reference number：99A0692526

Crystal orientation and microstructure of nickel film deposited at liquid nitrogen temperature by sputtering.

スパッタリングにより液体窒素温度で析出させたニッケル膜の結晶方位及び微細構造

Author (3)： SHIMIZU H (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  SUZUKI E (Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN) ,  HOSHI Y (Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN)
Material： Electrochimica Acta  (Electrochim Acta)
Volume： 44  Issue： 21/22  Page： 3933-3944  Publication year： 1999 
JST Material Number： B0535B  ISSN： 0013-4686  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nickel ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0692526&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0535B") }}

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (6)： スパッタリング ,  液体窒素温度 ,  析出 ,  ニッケル ,  結晶方位 ,  微細構造