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J-GLOBAL ID：200902147154776845   Reference number：01A0444048

Finite Element Analysis of Thermal Deformation of a Metal Mask for Pattern Formation of Sputtered Films.

スパッタ膜のパターン形成用金属マスクの有限要素法熱変形解析

Author (6)： YOSHIZAWA TOSHIO (富山大 工) ,  YAMAZAKI TOSHINARI (富山大 工) ,  YAMABUCHI TATSUO (富山大 工) ,  HIROBAYASHI SHIGEKI (富山大 工) ,  KIKUTA TOSHIO (富山大 工) ,  NAKATANI NORIYUKI (富山大 工)
Material： シミュレーション  (Journal of the Japan Society for Simulation Technology)
Volume： 20  Issue： 1  Page： 71-77  Publication year： Mar. 15, 2001 
JST Material Number： L0458A  ISSN： 0285-9947  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *sputtered deposition ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (8)：

• YAMAZAKI, T. Pattern Formation of Sputtered Films by Deposition through Mask. Jpn. J. Appl. Phys. 1996, 35 Part 1, 4755/4759
• 水口. 電子部品の電極形成方法およびそれに用いられるマスキング装置. 特許公開番号/特開平09-202959. 1997
• 水口. 電子部品の電極形成方法およびそれに用いる電極形成装置. 特許公開番号/特開平10-8239. 1998
• 倉西正嗣. 弾性学. 1970, 14/16
• 田中喜久明. 弾性力学と有限要素法. 1995, 113

Terms in the title (5)： スパッタ膜 ,  パターン形成 ,  金属マスク ,  有限要素法 ,  変形解析