Art

J-GLOBAL ID：200902148101254835   Reference number：02A0539266

Direct measurements of sheath-accelerated secondary electrons for monitoring the incident ion flux in plasma immersion ion implantation.

プラズマ含浸イオン注入における入射イオン粒子束モニタのためのシース加速二次電子の直接測定

Author (3)： NAKAMURA K (Chubu Univ., JPN) ,  TANAKA M (Nagoya Univ., JPN) ,  SUGAI H (Nagoya Univ., JPN)
Material： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Sci Technol)
Volume： 11  Issue： 2  Page： 161-164  Publication year： May. 2002 
JST Material Number： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ion implantation ,...
Semi thesaurus term： *plasma treatment

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JST classification (1)： Applications of plasma  (BJ02110K)

Terms in the title (10)： プラズマ ,  含浸 ,  イオン注入 ,  イオン ,  粒子束 ,  モニタ ,  シース ,  加速 ,  二次電子 ,  直接測定