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J-GLOBAL ID：200902149361554251   Reference number：01A0114811

Patterning on Silicon Wafers by Photolithography.

フォトリソグラフィによるSiウエハ上へのパターニング

Author (8)： ANMA MAMORU (静岡県静岡工技セ) ,  SATO NATSUO (静岡県静岡工技セ) ,  SATO KENJI (静岡県静岡工技セ) ,  YOSHIOKA MASAYUKI (静岡県静岡工技セ) ,  NAGATSU YOSHIYUKI (静岡県静岡工技セ) ,  YOKOYAMA NAOTO (富士セラミックス) ,  URANO SHUICHI (スターシステム開発) ,  IIDA KATSUHIKO (駿河精機)
Material： 静岡県静岡工業技術センター研究報告  (Reports of the Shizuoka Industrial Research Institute of Shizuoka Prefecture)
Issue： 45  Page： 11-16  Publication year： Oct. 2000 
JST Material Number： G0604A  ISSN： 0916-6572  CODEN： SSSHEX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *photolithography ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： フォトリソグラフィ ,  Siウエハ ,  パターニング