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J-GLOBAL ID：200902151378887372   Reference number：99A0512513

Application of Micropole Analyzers to the Measurement of Reactive Sputtering Processes.

超小型質量分析計の反応性スパッタリングプロセス計測への応用

Author (3)： BANNO TATSUYA (東大) ,  MICHIZONO SHIN'ICHIRO (高エネルギー加速器研究機構) ,  SAITO YOSHIO (高エネルギー加速器研究機構)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 42  Issue： 3  Page： 388-391  Publication year： Mar. 20, 1999 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *titanium compound ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (5)：

• FERRAN, R. J. J. Vac. Sci. Technol. 1996, A14, 1258
• 伴野達也. 真空. 1997, 40, 671
• 道園真一郎. 真空. 1992, 35, 381
• BANNO, T. Proc. 15th Symp. Plasma Processing, Hamamatsu. 1998, 354-357
• ERENTS, S. K. J. Nucl. Mater. 1976, 63, 399

Terms in the title (4)： 質量分析計 ,  反応性スパッタリング ,  プロセス計測 ,  応用