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J-GLOBAL ID：200902151608567038   Reference number：96A0503704

Fluorinated amorphous carbon thin films grown by helicon plasma enhanced chemical vapor deposition for low dielectric constant interlayer dielectrics.

低誘電定数の層間誘電体のためのヘリコンプラズマ促進化学気相成長法によって成長させたふっ化非晶質炭素薄膜

Author (2)： ENDO K (NEC Corp., Ibaraki, JPN) ,  TATSUMI T (NEC Corp., Ibaraki, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 68  Issue： 20  Page： 2864-2866  Publication year： May. 13, 1996 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： Carbon ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (9)： 低誘電 ,  定数 ,  誘電体 ,  ヘリコンプラズマ ,  促進 ,  化学気相成長法 ,  成長 ,  非晶質 ,  炭素薄膜