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J-GLOBAL ID：200902155902787203   Reference number：01A0234010

In situ hydrogen plasma treatment for improved transport of (400) oriented polycrystalline silicon films.

(400)配向多結晶シリコン膜の輸送改良に関するその場水素プラズマ処理

Author (6)： SUEMATSU A (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  NAKAHATA K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  RO K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  KAMIYA T (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  FORTMANN C M (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  SHIMIZU I (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
Material： Solar Energy Materials and Solar Cells  (Sol Energy Mater Sol Cells)
Volume： 66  Issue： 1/4  Page： 313-320  Publication year： Feb. 2001 
JST Material Number： D0513C  ISSN： 0927-0248  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： polycrystal ,...
Semi thesaurus term： *plasma treatment

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Terms in the title (4)： 配向 ,  多結晶シリコン膜 ,  輸送 ,  水素プラズマ