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J-GLOBAL ID：200902156443586344   Reference number：97A0247691

Photolithography of self-assembled monolayers: optimization of protecting groups by an electroanalytical method.

自己組織化単分子膜のフォトリソグラフィー 電気分析的方法による保護基の最適化

Author (3)： JENNANE J (Univ. Montreal, Montreal, CAN) ,  BOUTROS T (Univ. Montreal, Montreal, CAN) ,  GIASSON R (Univ. Montreal, Montreal, CAN)
Material： Canadian Journal of Chemistry  (Journal Canadien de Chimie)
Volume： 74  Issue： 12  Page： 2509-2517  Publication year： Dec. 1996 
JST Material Number： B0228A  ISSN： 0008-4042  CODEN： CJCHAG  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Canada (CAN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： monomolecular layer ,...

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JST classification (1)： Solid-liquid interface  (CB12050B)

Terms in the title (4)： 自己組織化単分子膜 ,  フォトリソグラフィー ,  保護基 ,  最適化