Art

J-GLOBAL ID：200902163387001253   Reference number：02A0616898

Nano-Patterning for Patterned Media using Block-Copolymer.

ブロック共重合体を用いるパターン形成媒質のためのナノパターン形成

Author (6)： ASAKAWA K (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  HIRAOKA T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  HIEDA H (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SAKURAI M (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KAMATA Y (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  NAITO K (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 15  Issue： 3  Page： 465-470  Publication year： 2002 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： pattern formation ,...
Semi thesaurus term： アニール

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Various photographies  (ZA03040M)

Reference (11)：

• 1). F. M. Houlihan et al: "Advances in Resist Technology and Processing XVIII" Proc. SPIE, vol 4345, (2001)
• 2). C. J. Progler et al: "Optical Microlithograpphy XIV" Proc.SPIE, vol 4346, (2001)
• 3). H. Hasegawa, H. Tanaka, K. Yamasaki, T. Hashimoto: Macromolecules, 20, 1651(1987)
• 4). F. S. Bates, G. H. Fredrickson: Physics Today, 52, 32(1999)
• 5). K. Douglas, N. Clerk, K. J. Rothschild: App. Phy. Left. 48, 676(1986)

Terms in the title (4)： ブロック共重合体 ,  パターン形成 ,  媒質 ,  ナノパターン形成