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J-GLOBAL ID：200902165501519660   Reference number：00A0144925

Low-Resistivity Highly Transparent Indium-Tin-Oxide Thin Films Prepared at Room Temperature by Synchrotron Radiation Ablation.

シンクロトロン放射アブレーションにより室温で作製した低電気抵抗で高透過率の酸化インジウムすず薄膜

Author (9)： AKAGI Y (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  HANAMOTO K (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  SUZUKI H (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  KATOH T (Sumitomo Heavy Ind. Ltd., Tanashi, JPN) ,  SASAKI M (Industrial Res. Center of Shiga Prefecture, Shiga) ,  IMAI S (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  TSUDAGAWA M (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  NAKAYAMA Y (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  MIKI H (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 38  Issue： 12A  Page： 6846-6850  Publication year： Dec. 15, 1999 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *tin oxide ,...
Semi thesaurus term： ITO(solid solution)

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (31)：

• 1) J. L. Vossen: Phys. Thin Films 9 (1977) 1.
• 2) L. A. Ryabova, V. S. Salun and I. A. Serbinov: Thin Solid Films 92 (1982) 327.
• 3) I. A. Rauf: J. Appl. Phys. 79 (1996) 4057.
• 4) H. Hayama, K. Kobayashi, H. Miki and Y. Onishi: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 70 (1986) 689.
• 5) W. Hung, C. Salupo, L. F. Szabo, G. P. Ceasar and W. Javurek: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 118 (1988) 411.

Terms in the title (8)： シンクロトロン放射 ,  アブレーション ,  室温 ,  作製 ,  電気抵抗 ,  高透過率 ,  酸化インジウムすず ,  薄膜