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J-GLOBAL ID：200902169718341384   Reference number：00A0746970

Boron carbide films deposited by a magnetron sputter-ion plating process: Film composition and tribological properties.

マグネトロンスパッタ-イオンプレーテイング法によって堆積した炭化ほう素膜 膜組成及びトライボロジー性質

Author (4)： REIGADA D C (Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA) ,  PRIOLI R (Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA) ,  JACOBSOHN L G (Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA) ,  FREIRE F L JR (Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 9  Issue： 3/6  Page： 489-493  Publication year： Apr. 2000 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *boron carbide ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (5)： マグネトロンスパッタ ,  堆積 ,  炭化ほう素 ,  膜組成 ,  トライボロジー性質