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J-GLOBAL ID：200902170671362106   Reference number：01A0552178

Optical and structural properties of nitrogen doped amorphous carbon films grown by rf plasma-enhanced CVD.

rfプラズマCVDで作製した窒素ドープ非晶質炭素膜の光学特性と構造特性

Author (6)： HAYASHI Y (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  KRISHNA K M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  EBISU H (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  SOGA T (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  UMENO M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  JIMBO T (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 10  Issue： 3/7  Page： 1002-1006  Publication year： Mar. 2001 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma CVD ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Substance index (1)： Methane

Terms in the title (8)： RFプラズマ ,  CVD ,  作製 ,  窒素ドープ ,  非晶質 ,  炭素膜 ,  光学特性 ,  構造特性