Art

J-GLOBAL ID：200902171544893360   Reference number：01A0758405

Optimizing Two-Photon Initiators and Exposure Conditions for Three-Dimensional Lithographic Microfabrication.

三次元リソグラフィーの微細加工における二光子開始剤及び露光条件の最適化

Author (9)： KUEBLER S M (Univ. Arizona, AZ) ,  RUMI M (Univ. Arizona, AZ) ,  WATANABE T (Univ. Arizona, AZ) ,  BRAUN K (Univ. Arizona, AZ) ,  CUMPSTON B H (Univ. Arizona, AZ) ,  HEIKAL A A (Univ. Arizona, AZ) ,  ERSKINE L L (Univ. Arizona, AZ) ,  THAYUMANAVAN S (Univ. Arizona, AZ) ,  PERRY J W (Univ. Arizona, AZ)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 14  Issue： 4  Page： 657-668  Publication year： 2001 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： laser lithography ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Photochemical reactions  (CB08020F)

Substance index (2)： 1,4-Bis[4-(dibutylamino)styryl]-2,5-dimethoxybenzene ,  1,4-Bis[4-[4-(dibutylamino)phenyl]-1,3-butadienyl]-2,5-dimethoxybenzene

Reference (31)：

• 1). W. Denk, J. H. Strickler and W. W. Webb, Science 248 (1990) 73.
• 2). J. H. Strickler and W. W. Webb, Opt. Lett.16 (1991) 1780.
• 3). D. A. Parthenopoulos and P. M. Rentzepis, Science 245 (1989) 843.
• 4). J. H. Strickler and W. W. Webb, Proc. SPIE (1990) Vol. 1398, 107.
• 5). E. S. Wu, J. H. Strickler, W. R. Harrell and W. W. Webb, Proc. SPIE (1992), Vol. 1674, 776.

Terms in the title (7)： リソグラフィー ,  微細加工 ,  二光子 ,  開始剤 ,  露 ,  光条件 ,  最適化