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J-GLOBAL ID：200902175763402270   Reference number：98A0557283

Electrochemical property of stainless steel thin film formed by ion beam sputtering and ion beam assist vapor deposition.

イオンビームスパッタおよびイオンビームアシスト堆積法で形成したステンレス鋼薄膜の電気化学的性質

Author (4)： NAKAJO HIROKI (東北大) ,  AKAO NOBORU (東北大 大学院) ,  HARA NOBUYOSHI (東北大 大学院) ,  SUGIMOTO KATSUHISA (東北大 大学院)
Material： 材料と環境講演集  (Proceedings of JSCE Materials and Environments)
Volume： 1998  Page： 279-282  Publication year： May. 1998 
JST Material Number： S0520C  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *ion beam sputtering ,...
Semi thesaurus term： IBAD法 ,...

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JST classification (3)： Vapor plating  (WC08022K) ,  Electrode process  (CB07040U) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (5)： イオンビームスパッタ ,  堆積 ,  ステンレス鋼 ,  薄膜 ,  電気化学的性質