Art

J-GLOBAL ID：200902184432190515   Reference number：03A0011661

Studies of a Reactive Sputter Ion Plating for Preparation of TiN Films Using a Facing Target Sputter and Immersed Inductive Coupled Plasma Source.

対向ターゲットスパッタ及び浸漬誘導結合プラズマ源を用いたTiN膜作製のための反応性スパッタイオンめっきの研究

Author (4)： SUNG Y-M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  OTSUBO M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  HONDA C (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  PARK C-H (Pusan National Univ., Pusan, KOR)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 11A  Page： 6563-6569  Publication year： Nov. 15, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ion plating ,...
Semi thesaurus term： sputter ion plating ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0011661&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

JST classification (3)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Mechanical properties of solids in general  (BL01021C) ,  Ceramic coating to metallic materials  (YC02050V)

Reference (17)：

• 1) S. M. Rossnagel, J. J. Cuomo and W. D. Westwood: Handbook of Plasma Processing Technology (Noyes, Park Ridge. NJ. 1990).
• 2) N. A. G. Ahmed: <I>Ion Plating Technology-Developments and Applications</I> (John Willy & Sons, Chichester, 1987).
• 3) J. Hopwood: Plasma Source Sci. Technol. 1 (1992) 109.
• 4) Y. M. Sung, K. Uchino, K. Muraoka and T. Sakoda: J. Vac. Sci. Technol. A 18 (2000) 2149.
• 5) Y. Okraku-Yirenkyi, Y. M. Sung, M. Otsubo, C. Honda and T. Sakoda: J. Vac. Sci. Technol. A 19 (2001) 2590.

Terms in the title (9)： ターゲット ,  スパッタ ,  浸漬 ,  誘導結合プラズマ ,  TiN膜 ,  作製 ,  反応性スパッタ ,  イオンめっき ,  研究