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J-GLOBAL ID：200902184820799521   Reference number：01A0435815

Electron-ion recombination rate constants in dense gaseous argon and krypton: Effects of electric field strength and the addition of N₂ or CH₄.

濃密気体状アルゴン及びクリプトン中の電子-イオン再結合速度定数 電場強度とN₂あるいはCH₄添加の影響

Author (9)： TAKEDA K (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KATO R (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  HAYASHIDA M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ODAKA T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SHINSAKA K (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KAMETA K (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ODAGIRI T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KOUCHI N (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  HATANO Y (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
Material： Journal of Chemical Physics  (J Chem Phys)
Volume： 114  Issue： 8  Page： 3554-3561  Publication year： Feb. 22, 2001 
JST Material Number： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *recombination reaction ,...
Semi thesaurus term： mean free path

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JST classification (2)： Electron scattering by molecules  (BH07030A) ,  Noncatalytic gas phase reactions  (CB06050Y)

Substance index (1)： Methane

Terms in the title (8)： 気体 ,  アルゴン ,  クリプトン ,  電子 ,  イオン再結合 ,  速度定数 ,  電場強度 ,  N2