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J-GLOBAL ID：200902189945532421   Reference number：95A0692022

Stabilization of the Chemically Amplified Resist Process.

化学増幅レジスト法の安定化

Author (7)： OIKAWA A (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  HATAKENAKA Y (Fujitsu VLSI Ltd., Kuwana-gun, JPN) ,  IKEDA Y (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  KOKUBO Y (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  MIYATA S (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  SANTOH N (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  ABE N (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 8  Issue： 4  Page： 519-524  Publication year： 1995 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： atmosphere (environment) ,...
Semi thesaurus term： ポジレジスト ,...

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JST classification (1)： Other reactions of polymer  (CG03040H)

Reference (8)：

• 1).S.A.MacDonald, N.J.Clecak, H.R.Wendt, C.G.Willson, C.D.Snyder, C.J.Knors, N.B.Deyoe, J.G.Maltabes, J.R.Morrow, A.E.McGuire and S.J.Holmes, Proc. SPIE, 1466, 1, 1991.
• 2).D.J.H.Funhoff, H.Binder, and R.Schwalm, Proc. SPIE, 1672, 46, 1992.
• 3).H.Ito, W.P.England, N.J.Clecak, G.Breyta, H.Lee, D.Y.Yoon, R.Sooriyakumaran, and W.D.Hinsberg, Proc. SPIE, 1925, 65, 1993.
• 4).K.J.Przybilla, Y.Kinoshita, T.Kudo, S.Masuda, H.Okazaki, M.Padmanaban, G.Pawlowski, H.Roeschert, W.Siess, and N.Suehiro, Proc. SPIE, 1925, 76, 1993.
• 5).A.Oikawa, N.Santoh, S.Miyata, Y.Hatakenaka, H.Tanaka and K.Nakagawa, Proc. SPIE, 1925, 92, 1993.

Terms in the title (2)： 化学増幅レジスト ,  安定化