Art

J-GLOBAL ID：200902190207610513   Reference number：01A0714086

Initial preferred growth in zinc oxide thin films on Si and amorphous substrates by a pulsed laser deposition.

パルスレーザ蒸着によるSiと非晶質基板上の酸化亜鉛薄膜における初期の選択成長

Author (3)： CHOI J H (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TABATA H (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KAWAI T (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Crystal Growth  (J Cryst Growth)
Volume： 226  Issue： 4  Page： 493-500  Publication year： Aug. 2001 
JST Material Number： B0942A  ISSN： 0022-0248  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： pulsed laser ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： パルスレーザ蒸着 ,  Si ,  非晶質 ,  酸化亜鉛薄膜 ,  初期 ,  選択成長