Art

J-GLOBAL ID：200902193110875171   Reference number：93A0660287

Multiple-exposure interferometric lithography.

Author (2)： ZAIDI S H (Univ. New Mexico, New Mexico) ,  BRUECK S R J (Univ. New Mexico, New Mexico)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 11  Issue： 3  Page： 658-666  Publication year： May. 1993 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)