Art

J-GLOBAL ID：200902197953161176   Reference number：99A0196180

Alloying and electrical properties of evaporated Cu-In bilayer thin films.

Cu-In蒸着二層薄膜の合金化と電気特性

Author (4)： NAKANO T (Seikei Univ., Tokyo, JPN) ,  SUZUKI T (Seikei Univ., Tokyo, JPN) ,  OHNUKI N (Seikei Univ., Tokyo, JPN) ,  BABA S (Seikei Univ., Tokyo, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 334  Issue： 1/2  Page： 192-195  Publication year： Dec. 04, 1998 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *multilayer film ,...
Semi thesaurus term： アニール

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JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Electronic conduction in crystalline metals  (BM03033M)

Terms in the title (5)： Cu ,  蒸着 ,  薄膜 ,  合金化 ,  電気特性