Art

J-GLOBAL ID：200902198871089287   Reference number：99A0587156

Effects of ionization power on ion energy distribution in ionized r.f. sputtering measured by an energy-resolved mass spectrometer.

エネルギー分解質量分析装置により測定したイオン化RFスパッタリングにおけるイオンエネルギー分布に及ぼすイオン化力の影響

Author (5)： KUSANO E (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KASHIWAGI N (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KOBAYASHI T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  NANTO H (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KINBARA A (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
Material： Surface & Coatings Technology  (Surf Coat Technol)
Volume： 108/109  Issue： 1/3  Page： 177-181  Publication year： Oct. 10, 1998 
JST Material Number： D0205C  ISSN： 0257-8972  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *RF sputtering ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0587156&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0205C") }}

JST classification (2)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Sputtering  (BK16110U)

Terms in the title (6)： エネルギー ,  分解 ,  質量分析装置 ,  イオン化 ,  RFスパッタリング ,  イオンエネルギー分布