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J-GLOBAL ID：200902204268744637   Reference number：05A0022923

Adhesion Mechanism of Micro Bubbles on ArF and F₂ Excimer Resists

ArF及びF₂エキシマレジスト上の微小気泡の付着機構

Author (2)： ENDO H (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  KAWAI A (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 17  Issue： 5  Page： 713-714  Publication year： 2004 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： excimer laser ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (2)： Ethylene glycol ,  Diiodomethane

Reference (2)：

• 1. D. H. Kaelble, J.Appl. Polym. Sci., 18 (1974) 1869.
• 2. F. M. Fowks, Ind. Eng. Chem., 56 (1964) 40

Terms in the title (4)： ARF ,  エキシマ ,  レジスト ,  微小気泡